Ученые университета проводят исследования для создания отечественного безмасочного литографа
Научно-исследовательскую работу по изучению возможности разработки установки безмасочной рентгеновской нанолитографии с длиной волны 13,5 нм на базе синхротронного и/или плазменного источника выполняют ученые Центра коллективного пользования «Микросистемная техника и электронная компонентная база» МИЭТ. В случае успеха исследования в России появится уникальное оборудование для производства микросхем топологического уровня 28 нм и меньше.
Цель выполнения НИР – экспериментальная проверка основных технологических решений в области безмасочной рентгеновской нанолитографии. Первый этап проекта предполагает изготовление и экспериментальное исследование макетов МЭМС динамической маски в двух вариантах конструкции: с управлением коэффициентом пропускания рентгеновского излучения и с управлением коэффициентом отражения рентгеновского излучения. На основе полученных результатов будет разработан технический облик будущей литографической установки, выработаны и обоснованы параметры ее ключевых узлов: источника рентгеновского излучения, оптической системы (включая МЭМС динамической маски), вакуумной системы, системы совмещения и позиционирования.
Отечественные и мировые аналоги подобного оборудования и самой технологии безмасочной рентгеновской нанолитографии на сегодняшний день отсутствуют.
«Это поисковый аванпроект, в ходе которого проверяется сама возможность переноса изображения при помощи МЭМС динамической маски. Мы должны показать, что система работает надежно, пройдет все испытания и метрологические тесты. Если эта работа завершится успешно, за ним последует опытно-конструкторский проект по созданию литографической установки», – говорит доктор технических наук, профессор, проректор по научной работе МИЭТ Сергей Александрович Гаврилов.
В команде проекта – около 50 сотрудников МИЭТа и ЦКП «МСТ и ЭКБ», в том числе молодые кандидаты наук и аспиранты. В тесной кооперации с МИЭТом над проектом работают завод «Микрон» и резидент ОЭЗ «Технополис Москва» Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) – их производственные возможности будут использованы для изготовления образцов МЭМС динамической маски. В Институте физики микроструктур РАН (ныне филиал Института прикладной физики РАН, Нижний Новгород) и зеленоградском АО «НПП «ЭСТО» конструируют оптическую вакуумную систему с зеркальной оптикой и элементы системы позиционирования. Для испытаний будет использован источник плазмы, разработанный в Институте спектроскопии (ИСАН) РАН (Троицк).
Проект реализуется до конца 2022 года по заказу Министерства промышленности и торговли Российской Федерации в рамках государственной программы «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности».
Работа проводится при поддержке Минобрнауки (грант на реализацию проекта в области синхротронных исследований).
Фото: сайт МИЭТ